據路透引述消息報道，中國科學家今年初在深圳實驗室打造出了一部極紫外光（EUV）光刻機的原型機，目前正在測試階段，體積幾乎佔滿整個工廠樓層，可生產驅動人工智能（AI）、智能電話和先進武器的晶片。
報道指出，這項被形容為「中國曼哈頓計劃」的秘密工程項目，突顯中國銳意在AI晶片技術領域與西方匹敵。至於所謂「曼哈頓計劃」，即美國秘密研製原子彈的戰時計劃。
據路透引述消息報道，中國科學家今年初在深圳實驗室打造出了一部極紫外光（EUV）光刻機的原型機，目前正在測試階段。（示意圖）
由ASML前工程師團隊打造
報道又指，這部EUV光刻機由荷蘭晶片設備製造商ASML前工程師團隊打造，對ASML生產的EUV光刻技術進行了逆向工程。現時該部中國EUV光刻機已能運行並成功產生極紫外光，但尚未生產出可用的晶片，而中國政府的目標是在2028年前實現原型機晶片生產，但項目相關人士表示，更有可能到2030年才實現量產。
ASML CEO Christophe Fouquet去年出席SPIE大會並發表演講，當時介紹了High NA EUV光刻機。
EUV光刻機是全球晶片競賽中最精密的製程之一，利用極紫外光束在矽片上蝕刻電路，能製造出更小、更密集的電路，能提升晶片的效能及效率，從而生產出最先進、高階的晶片。而這項技術一直被西方供應商壟斷。
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